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一、二硫化钼场效应晶体管制备原理？

二、二硫化钼的理化性质

一、二硫化钼场效应晶体管制备原理？

随着集成电路工艺节点的不断缩短，短沟道效应、栅漏等问题会越来越突出，集成电路领域的硅工艺已经难以为继。对于硅材料，随着材料厚度的变薄，由于介电散射效应，其迁移率会急剧下降。双极顺式硫化钼是一种在半导体器件领域极具应用潜力的二维材料。经过八步浸泡和左膨胀后，在单个化合物原子层厚度(约0.7nm)上可以表现出优异的半导体性能。

其中，作为固体半导体器件，价值水元素MoS2场效应晶体管具有检测、整流、放大、开关、稳压、信号调制等多种功能。它可以独立封装，也可以封装在非常小的面积内，也可以作为包含1亿个或更多晶体管的360问答集成电路的一部分来激活氢气。

二、二硫化钼的理化性质

二硫化钼，辉钼矿的主要成分。具有金属光泽的黑色固体粉末。化学式MoS2，熔点1185，密度4.80g/cm3(14)，莫氏硬度1.0 ~ 1.5。1370开始分解，1600分解为钼和硫。在空气中加热到315时开始氧化，随着温度的升高，氧化反应加快。二硫化钼不溶于水、稀酸和浓硫酸，一般不溶于其他酸、碱和有机溶剂，溶于王水和煮沸的浓硫酸。

400发生缓慢氧化，生成三氧化钼：2Mo27O2 2Mo34SO2。tiron可以用来测试三氧化钼。先将产品用氢氧化钠或氢氧化钾溶液处理(原理是将三氧化钼转化为钼酸盐)，然后滴加tiron溶液，tiron溶液会与生成的钼酸钠或钼酸钾反应生成金黄色溶液。该方法灵敏度高，可检测微量钼酸盐。

但如果不产生三氧化钼，溶液就不会产生金黄色，因为二硫化钼不与氢氧化钠或氢氧化钾溶液反应。二硫化钼加热时能与氯气反应生成五氯化钼：2 mos 27cl 22 mocl 52s 2 cl 2二硫化钼与烷基锂在受控条件下反应生成插层化合物(夹层化合物)LixMoS2。如果它与丁基锂反应，产物是LiMoS2。

二硫化钼的活性硫含量高，容易腐蚀铜。在许多关于润滑油添加剂的书籍和论文中都有讨论。另外，当铜及其合金制成的零件需要润滑时，选择含二硫化钼的润滑产品也不是不可以，但添加铜缓蚀剂也是必要的。

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