三氯氢硅水解反应方程式？ 三氯氢硅和氢气反应方程式

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一、三氯氢硅水解反应方程式？

二、三氯氢硅与氢气反应实验？

三、三氯氢硅氢还原法优缺点

一、三氯氢硅水解反应方程式？

遇湿冒烟，与水发生剧烈反应：2Si HCl 33H2O —( HSIO)2O 6 HCl；在碱性溶液中分解放出氢气：Si HCl 3 3 NaOH H2O——Si(OH)4 3 NaCl H2 Si HCl 3h2=Si 3 HCl上面的错误是三氯氢硅，sicl3不存在。遇湿冒烟，遇水反应剧烈：2Si HCl 33H2O —( HSIO)2O 6 HCl；在碱性溶液中分解放出氢气：Si HCl 3 3 NaOH H2O——Si(OH)4 3 NaCl H2 Si HCl 3h2=Si 3 HCl上面的错误是三氯氢硅，sicl3不存在

二、三氯氢硅与氢气反应实验？

SiHCl3是具有低熔点的分子晶体。SiHCl3液体没有水，所以不能和水反应。可以在圆底烧瓶中加热SiHCl3液体以获得SiHCl3的蒸气。在氢气与SiHCl3蒸汽混合之前，将其引入充满浓H2SO4的洗涤筒中。尾气中含有HCl，要有防回流装置。为防止蒸汽进入反应装置，尾气处理装置前应有一个装有浓H2SO4的洗涤缸，防止蒸汽进入。

三、三氯氢硅氢还原法优缺点

三氯氢硅氢还原法优缺点：用四氯化硅与氢气反应生产多晶硅比较困难，比三氯氢硅与氢气反应困难，耗能高。优点是效果好。

生产中，氯化温度一般控制在450~500，一方面可以提高生产率，另一方面可以保证质量，因为在低温下，不仅反应速度慢，还会生成Si2Cl6、Si3Cl8等副产物，影响产品纯度。但如果温度过高，硅铁中其他不挥发的杂质会随SiCl4挥发，影响SiCl4的纯度。根据格斯定律

Reaction of silicon tetrachloride (g) H2(g)SiHCl3(g hydrochloric acid (g) can be regarded as the difference between silicon (3HCl(g)SiHCl3(g) hydrogen (g) and reaction of silicon (4HCl(g)SiCl4(g) 2H2 (g). mol-1-(-241kJ？ mol-1)=31kJ？ Moore -1, so the answer is: 31kJ? Moore -1.

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